最新研究称自闭症源自胎儿期大脑皮层发育问题
2014-03-28 10:30:24 | 来源:中国新闻网
  中新网3月27日电 据外媒27日报道,美国研究表示,自闭症孩童脑部瑕疵是与生俱来;婴儿还在母亲体内,疾病就开始生成。

  据报道,研究员表示,研究发现直接证明了自闭症源自胎儿期。美国每88名孩童中就有1人罹患自闭症,自闭症目前没有彻底治疗的方法。

  研究共同主笔神经科学教授库卓妮(Eric Courchesne)表示,胎儿期阶段,婴儿脑部会生成6层大脑皮质,“我们发现,大部分罹患自闭症的孩童,这些皮质层的发展都出现问题,比例高达91%。”

  库卓妮也是加州大学圣地亚哥分校(University of California, San Diego)自闭症卓越研究中心(Autism Center of Excellence)的主管。

  目前,这项研究已经在国际医学期刊上发表。
责任编辑:谢哲
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